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氬離子拋光（常用氬離子拋光機）與離子減薄的異同，一直以來困擾著很多用戶，其實這兩者的基本原理沒什么不同，不同的是使用它們的目的。

離子減薄是通過利用離子束輻照材料表面，使其發(fā)生腐蝕或剝離，從而將材料的厚度減少到所需的尺寸。離子束可以是高能離子或低能離子，其能量決定了材料表面的腐蝕速率。離子束輻照可以是均勻的，也可以是局部的，使得只有特定區(qū)域被減薄。

離子研磨是通過利用離子束在材料表面產(chǎn)生的沖擊和噴射效應去除表面雜質(zhì)和不均勻部分，使材料表面更平整光滑。離子束在擊中材料表面時，會引起表面原子的彈跳和擴散，從而消除局部高度差，使表面更加均勻。

FIB和離子減薄是在透射電子顯微鏡(TEM)測試領域內(nèi)行之有效的樣品制備手段，而氬離子拋光彌補了TEM之外的其他分析測試領域離子束制備樣品的空白，已發(fā)展成為一種新型的高質(zhì)量拋光技術(shù)，在地質(zhì)領域已經(jīng)有了較為廣泛的應用，然而在其他材料領域的使用還鮮為人知，有待進一步拓展。

氬離子拋光

氬離子拋光一般具備兩種拋光功能，截面拋光和平面拋光。

其中，截面拋光的一項重要改進是使用了擋板，如圖1a所示。離子束出射，被擋板遮擋的部分不受離子束的轟擊，而裸露部分邊緣則在離子束作用下逐漸形成一個垂直于擋板的平整橫截面，如圖1b所示。

平面拋光的示意圖如圖1c所示。平面拋光的樣品形態(tài)比截面拋光可以更為多樣化，異形塊體和粉末拋光也可適用。離子束以一定入射角從樣品表面掠過，樣品表面的原子從上至下被層層除去，從而形成平整的拋光面。

推薦產(chǎn)品：

ArNanoFab 100氬離子拋光機